据Intel官方宣布，位于俄勒冈州的晶圆厂已经收到了ASML发货的全球第一台高数值孔径（NA）的极紫外光刻机。这台名为“Twinscan EXE:5000”的光刻机将帮助Intel继续推进摩尔定律。摩尔定律是指每两年芯片上可容纳的晶体管数量将翻倍，而这台高NA EUV光刻机将为Intel的18A制造工艺提供支持，这是一种1.8纳米级别的制造工艺。

        早在2018年，Intel就向ASML订购了这种新一代光刻机，目的是用于计划今年量产的18A制造工艺。同时，Intel还是第一个下单了改进型的Twinscan EXE:5200光刻机，预计将在2025-2026年用于更先进的工艺。

        据报道，ASML计划在2024年生产高NA EUV光刻机最多10台，其中Intel已经订购了多达6台。而到了2027-2028年，ASML预计每年能生产20台左右的高NA EUV光刻机。

        高数值孔径（NA）的极紫外光刻机是半导体制造中的重要工具，它能够以更高的分辨率和更精细的图案将电路图案刻写到芯片上。这对于推动半导体行业的技术进步至关重要，因为随着摩尔定律的推进，芯片上的晶体管数量不断增加，需要更高的分辨率和更精细的图案来实现更高的集成度。

        新光刻机的价格估计至少3亿美元，甚至可能达到或超过4亿美元，也就是逼近人民币30亿元，而现有低NA EUV光刻机需要2亿美元左右。